福维科新材料科技发展(山东)有限公司六方氮化硼陶瓷产品介绍

2025-12-22

重点:产品性能特点说明 

在光伏单晶硅、多晶硅制备生产中的应用场景和主要应用产品部件 

在半导体行业的应用场景和主要应用产品部件 

一、产品介绍: 

福维科新材料科技发展(山东)有限公司生产的六方氮化硼陶瓷产品主要包 

坩埚、高温绝缘件、板材、异形、特种电镀热场件等,其材质纯度达 99.5% 

以上,杂质含量低于 0.5%,耐高温上限达 2800℃(真空环境),空气中 1000℃ 

可长期稳定使用,体积电阻率 10¹Ωcm,导热系数 30-40W/(mK)。 

二、产品性能特点 

• 耐高温性:在真空环境下耐高温上限可达 2800℃,在空气中 1000℃可长期稳 

定使用,能够满足高温工艺的需求。 

• 电绝缘性:具有优异的电绝缘性,体积电阻率高达 10¹Ωcm,可防止电短路, 

适用于电子元件和半导体制造中的绝缘部件。 

• 高导热性:导热系数在 30-40W/(mK)之间,能够有效传导热量,有助于电子 

元件和半导体芯片的散热。 

• 化学稳定性:对大多数化学物质具有良好的化学惰性,不易与酸、碱、盐等发 

生反应,也不会被熔融金属润湿,适用于腐蚀性环境和金属冶炼工艺。 

• 低摩擦系数和自润滑性:六方晶体结构赋予其低摩擦系数和自润滑性能,即使 

在干摩擦或高温条件下也能保持润滑,可减少机械部件之间的磨损。 

• 抗热震性:低热膨胀系数和高导热率使其具有优良的抗热震性,能够承受极端 

温度波动,适用于冷热条件间的快速循环。 

• 可加工性:硬度相对较低,可使用传统的硬质合金刀具进行车削、铣削、钻孔 

等精密加工,便于制造复杂形状的部件。 

三、在光伏单晶硅、多晶硅制备生产中的应用场景和主要应用产品部件 

• 应用场景:六方氮化硼陶瓷制品在光伏单晶硅、多晶硅制备生产中主要用于晶 

体生长、拉晶、铸锭等高温工艺环节,能够提供高温绝缘、耐腐蚀、低污染的环 

境,确保晶体生长的质量和纯度。 

• 主要应用产品部件:- 

绝缘隔热部件:如电极保护套管、垫板、密封环、隔热罩等,能够有效隔热, 

减少热量损失,提高能源利用效率,同时保护设备免受高温影响。 

– 器皿:用于盛装高温熔融的硅料,其高纯度、化学惰性和耐高温性可防止杂质 

污染,确保单晶硅或多晶硅的纯度和质量。 

– 支撑部件:如坩埚支架、托架等,用于支撑坩埚和其他高温部件,保证其在高 

温环境下的稳定性和可靠性。 

– 喷嘴:在晶体生长过程中,用于控制原料的添加和气体的喷射,其良好的耐高 

温和化学稳定性可确保工艺的稳定进行。 

– 蒸发舟:用于蒸发源的制作,在薄膜沉积等工艺中,能够均匀地蒸发材料,保 

证薄膜的质量和均匀性。 

四、在半导体行业的应用场景和主要应用产品部件 

• 应用场景:六方氮化硼陶瓷在半导体行业中广泛应用于晶体生长、薄膜制备、 

半导体制造设备、封装与散热等多个环节,为半导体芯片的生产提供关键的材料 

支持,确保芯片的高性能和可靠性。 

• 主要应用产品部件: 

– 晶体生长: 

• 坩埚:是制备半导体晶体如砷化镓、磷化镓、磷化铟等的理想坩埚材料,可防 

止杂质污染,确保晶体纯度。 

• 支撑部件:在分子束外延(MBE)和金属有机化学气相沉积(MOCVD)等薄 

膜生长技术中,可用于制作衬底托架、加热器等,其良好的热稳定性和电绝缘性 

有助于维持稳定的生长环境。 

– 半导体制造设备: 

• 晶圆传输部件:可用于制造晶圆传输机械手、晶圆夹具等部件,其低摩擦系数 

和自润滑特性可减少晶圆在传输过程中的划伤和损伤,同时其化学惰性可防止对 

晶圆造成污染。 

• 真空腔体部件:在半导体制造的超高真空环境中,可用于制造真空腔体内的各 

种部件,如绝缘垫板、密封件等,其在高温、高真空条件下的稳定性和无油润滑 

特性可避免对半导体制造工艺的污染。 

• 加热元件:可用于制造加热管、加热板等加热元件,其良好的导热性和电绝缘 

性可实现均匀加热,同时避免电击穿等隐患。 

– 封装与散热: 

• 导热绝缘基板:可作为半导体芯片的封装基板,能够有效传导芯片产生的热量, 

同时防止电短路,提高封装的可靠性和性能。• 散热部件:可用于制造散热片、散热管等散热部件,其高导热性可快速将热量 

散发,降低芯片工作温度,提高芯片的稳定性和寿命。

 

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